About Photomask
フォトマスクについて
フォトマスクは、ガラス基板の遮光膜に非常に微細な回路パターンを形成したもので、複雑な半導体の回路をシリコンウェハに焼き付けるときの原版です。テクセンドフォトマaスクは、半導体用フォトマスクのほか、各種研究・開発用ガラスマスクや、シリコンステンシルマスク、ナノインプリント用モールドなどを開発・製造しています。
Products 製品
半導体用フォトマスク
フォトマスクは、半導体製造工程で重要な役割を果たすもので、半導体ウェハ―に回路を転写するための原版です。回路パターンのデータをもとに電子ビームでフォトマスク基板（マスクブランクス）上に回路パターンを作り、その後、化学薬品をなどを使ったエッチングやフォトレジスト（感光材料）剥離、洗浄、測定、検査を経てフォトマスクができあがります。
ナノインプリント用モールド
ナノインプリントとは、原版となるモールド（金型）を型押しすることで、数十メートル単位のパターンを転写する微細加工技術です。工程がシンプルなため、微細構造体を安価に再現性良く大量に製造する技術として期待されています。
各種用途向けフォトマスク
超微細加工技術を駆使して半導体向けのほか、各種産業用・研究開発用などにも高精細で信頼性の高いフォトマスクを販売しています。