About Molds for Nanoimprinting
ナノインプリント用モールドとは
ナノインプリントとは、原版となるモールド（金型）を型押しすることで、数ナノメートル単位のパターンを転写する微細加工技術です。工程がシンプルなため、微細構造体を安価に再現性良く大量に製造する技術として期待されています。
テクセンドフォトマスクは、半導体用フォトマスク事業を通じて培ったリソグラフィ技術を応用し、高精度なナノインプリント用モールドを開発、製造しています。
Nanoimprinting Methods and Types of Molds
ナノインプリントの方式と
モールドの種類
ナノインプリントの方式
ナノインプリントには大きく分類すると「UV方式」と「熱方式」の2種類があります。
UVナノインプリント方式
モールド上のパターンをUV硬化性樹脂に押し付け、紫外光を照射し樹脂を硬化させることでパターンを複製する方式です。
常温での作業が可能なため、パターンの再現制度が高いという特徴があります。
熱ナノインプリント方式
モールド上のパターンを熱可塑性樹脂に強い圧力で押し付け、加熱後冷却することでパターンを複製する方式です。加熱により軟化する材料であれば、さまざまなものに対し直接加工することが可能です。
モールドの種類
石英モールド
主にUVナノインプリント方式で使用されるモールドです。半導体用フォトマスクと同じ石英材料を使用するので、剛性と平坦性が高いのが特徴です。
半導体用フォトマスク製造プロセスを用いるため、数十ナノメートルレベルの高精細パターンが可能です。また多段構造体を有するモールドも開発、製造しています。
基板サイズ:6025(152×152×6.35mm(t))
シリコンモールド
主に熱ナノインプリント方式で使用されるモールドです。シリコン基材上に塗布された感光性樹脂に電子ビームでパターンを描画し、ドライエッチング法により深堀りします。石英モールド作製工程に順じたプロセスを用いるため、高精細パターンの作製を可能としています。またアスペクト比の高いパターンを有したシリコンモールドを開発中です。
パターン形状例
テクセンドフォトマスクは、お客さまのニーズに対応したモールドを提供しており、豊富な実績を誇ります。また、3D構造パターンの開発など、研究・開発にも注力しています。
ご希望のパターン形状など、お気軽にご相談ください。