ナノインプリントとは
テクセンドフォトマスクは、長年にわたりフォトマスク製造で培ってきたナノレベルの加工・描画技術を強みとし、その技術基盤を活かしてナノインプリント分野へと事業を拡大しています。
ナノインプリントは、数十ナノメートル単位の微細パターンを転写する加工技術です。
こうした微細構造は、光の進み方を精密に制御できるため、次世代表示デバイスや光学部材に不可欠な技術となっています。
朝霞サイトでは、完全統合型ナノインプリント装置を活用し、プロセス開発および新分野での活用を見据えた製品の開発に取り組んでいます。
加えて、企業や研究機関との協業を通じて、ナノインプリント技術のさらなる可能性拡大を目指しています。
ナノインプリントモールド
テクセンドフォトマスクはナノインプリントの根幹となる「マスターモールド」の開発・製造をしています。
マスターモールドは微細パターンの原型となる金型です。
弊社では特性の違う石英モールドとシリコンモールドの両方の製造技術を備えており、お客さまのニーズに対応したモールドを提供しています。
ナノインプリントの利用例-ARグラス
