サマーインターンシップ2026を開催します！
| 期間 | 2026/9/14(月) - 9/18(金) （9：00 - 17:00 休憩60分） |
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| 場所 | テクセンドフォトマスク 朝霞サイト 住所：埼玉県新座市野火止7-21-33 |
募集要項
| 募集対象 | フォトマスク・ナノインプリントなど微細加工技術に関心のある理系の大学生・大学院生 |
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| 応募方法 | 下記の2028年卒マイページよりお申し込みください。 https://mypage.3030.i-webs.jp/photomask2028/ |
| 問合せ先 | テクセンドフォトマスク 採用担当 jp-recruiting@photomask.com |
| 応募締切 | 2026/7/24(金) |
| 備考 | 交通費、宿泊日は当社が負担いたします。 詳細な募集要項はマイページよりご確認ください。 |
内容
研究開発部門と技術開発部門のいずれかの業務（実際の製造装置を用いた実験や分析、業務改善、ディスカッション）を体験することができます。実際の業務の他に、現役社員と交流する時間も設けております。5日間の実習を通して、半導体業界の発展を支えるフォトマスクを体感できるインターンシップとなっております。
研究開発部門
業務内容
・最先端材料/プロセスの研究開発
・特許/共同開発による競争優位性確保
・プロセス技術の実用化支援
研修内容
【過去の事例】
・ドライエッチング実験・考察
・原子間力顕微鏡による遮光帯の解析・考察
・ナノインプリント技術概要解説
技術開発部門
業務内容
・新製造装置の導入、プロセス構築
・マスクの微細化、安定生産
・グローバル生産拠点の改善
研修内容
【過去の事例】
・機械動作パラメータ仕様の作成・品質モニタ
・MAGICSによるブランクス検査
・装置メンテナンス・異物分析
過去の参加者の感想
・業務体験では実際に自分の考えたレシピで成膜を行っていただいたことが印象に残りました。
・実験→考察→ミーティングと一連の流れをすべて経験させていただいたので、企業での研究 (仕事) をより深く知ることができました。
・若手からベテランの方まで幅広く、全員が発言しやすい雰囲気を感じ取ることができました。
インターン担当者からのメッセージ
「本気で技術に向き合いたい」
そんな想いを持つ皆さんに、ぜひ参加いただきたいインターンシップです。
本プログラムでは、現場さながらのテーマに取り組みながら、フォトマスク製造技術の面白さや難しさをリアルに体感していただきます。先輩社員とのディスカッションやフィードバックを通じて、自分が学んできたことがどう活かせるかを知るだけでなく、今後の研究活動における新たな課題に気づくきっかけにもなるはずです。少しでも興味があれば、ぜひ一歩踏み出してみてください。
皆さんとお会いできるのを楽しみにしています！